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    電子束蒸發鍍膜系統

    電子束蒸發鍍膜系統

    384
    規格/型號：暫無
    品牌：科睿設備
    應用領域：加工設備
    產地：上海 - 上海
    廠家/供應商：科睿設備有限公司
    咨詢電話:：852-2710-8200（請說明信息源自“中冶有色網”）
    更新時間：2025-06-15
    級別：待認證

    電子束蒸發鍍膜系統說明介紹

    電子束蒸發鍍膜系統

    電子束蒸發鍍膜系統


    （E-Beam Evaporator System）

    電子束蒸發鍍膜系統（E-Beam Evaporator System）是由美國專業制造商生產的高性能薄膜制備設備，適用于薄膜半導體材料的制備。該系統具備電子束蒸發、熱阻蒸發、離子束輔助蒸發鍍膜（IBAD）和瀉流源等多種功能模式。其技術參數包括304不銹鋼圓柱形腔體（標準直徑18英寸和24英寸）、分子泵或冷凝泵真空系統、手動或自動傳片的Load Lock（適合200mm以下樣品）、PC/PLC自動控制界面、QCM和光學膜厚監控、RGA殘余氣體分析、多種襯底夾具（單片、多片、行星式）以及可加熱、冷卻、偏壓和旋轉的襯底支架。此外，系統還支持多種沉積技術，包括射頻、直流和脈沖直流磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發、有機蒸發（用于OLED/PLED和有機電子）、傾斜角沉積（GLAD）和陰極等離子體輔助沉積，能夠滿足從研發到生產的多樣化需求。

    儀器介紹:

    美國專業的制造商，擁有20多年豐富的經驗在：電子束蒸發設備、磁控濺射設備、熱蒸發設備等。有以下功能模式：

    electron beam evaporation， 電子束蒸發；

    resistive evaporation，熱阻蒸發；

    ion beam assisted deposition (IBAD)， 離子束輔助蒸發鍍膜；

    effusion cell，瀉流源。

    技術參數：

    Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸 –   scaled to match the specific application；

    Pumping: 分子泵或冷凝泵；

    Load Lock: 手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；

    Process Control: PC / PLC自動控制界面，菜單控制，數據獲取和遠程控制 ；

    In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監控，光學膜厚監控；

    RGA殘余氣體分析；

    Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；

    Substrate Holders: 可加熱，冷卻，偏壓，旋轉；

    Ion Source: 襯底預清洗，納米表面改性。

    Deposition Techniques:

    Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；

    Electron Beam Evaporation，電子束蒸發；

    Thermal Evaporation，熱蒸發；

    Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有機蒸發（用于OLED/ PLED和有機電子）；

    Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積

    Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。

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    電子束蒸發鍍膜系統 加工設備
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    加工設備
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