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工作原理
FPNAN-NV采用多模態光學探測技術：白光干涉模式通過分析反射光干涉條紋變化獲取亞納米級垂直分辨率；共聚焦模式利用點掃描與針孔濾波實現橫向高精度定位；激光掃描模式則通過三角測距原理完成大范圍快速形貌捕捉。設備內置自適應算法，可自動切換測量模式并融合多源數據，生成高保真三維點云圖像。
應用范圍
廣泛應用于半導體行業（晶圓表面缺陷檢測、芯片封裝平整度分析）、材料科學（薄膜厚度測量、表面粗糙度表征）、精密機械（零件磨損評估、微納結構加工質量檢測）、生物醫學（組織表面形貌分析、植入物適配性驗證）及光學元件（透鏡面型檢測、鍍膜層均勻性評估）等領域，滿足科研與工業場景的多尺度檢測需求。
產品技術參數
測量范圍：0.1nm-10mm（垂直方向）；橫向分辨率：0.1μm；垂直分辨率：0.01nm（白光干涉模式）；掃描速度：≥100μm/s；測量模式：白光干涉/共聚焦/激光掃描；數據接口：USB3.0/GigE；工作溫度：15-35℃；設備尺寸：450×320×280mm；重量：≤25kg。
產品特點
多模態融合，支持從納米到毫米級跨尺度測量；
非接觸式檢測，避免樣品損傷；
智能化軟件支持自動缺陷識別與三維形貌重建；
高動態范圍與低噪聲設計，適應復雜表面檢測；
模塊化設計，兼容明場/暗場/偏振成像擴展。
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湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
