本實用新型公開了一種高真空熔煉設備,包括設備底座,所述設備底座的底部靠近四周邊角位置均連接有萬向腳輪,且設備底座的下表面靠近邊緣位置連接有支撐調節裝置,所述設備底座的上表面靠近一側位置固定安裝有真空泵室,且設備底座的上表面靠近另一側位置固定安裝有高真空控制柜,所述真空泵室的頂部支撐有高真空腔室,所述高真空控制柜的上表面固定安裝有熔煉控制柜,所述熔煉控制柜的前表面設有控制面板,所述高真空腔室的頂部開設有排氣口,且高真空腔室的頂部連接有壓力傳感器。本實用新型所述的一種高真空熔煉設備,能夠方便對高真空熔煉設備進行固定和移動,且能夠對高真空腔室的活動門進行鎖緊。
聲明:
“高真空熔煉設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)