本申請公開了供一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端,方法,包括如下步驟,S1、接收濃度場分布信息,獲取像素矩陣;S2、利用局部偏差函數的數學類比,對所述像素矩陣進行處理,從像素矩陣中計算并給出實際濃度場中局部矩形區域的濃度局部差異函數;S3、基于得到的濃度局部差異函數而計算濃度場分布的單個不均勻系數,并獲取單張圖片中濃度場的整體不均勻系數,基于所述整體不均勻系數而判斷濃度場的分布不均勻性。本發明提供的技術方法能夠對濕法冶金過程多相混合濃度場分布均勻性進行評價,簡便可靠,且也可以適用于溫度場的均勻性評價。
聲明:
“多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)