本實用新型公開了一種管式高溫熔鹽同步輻射原位研究裝置,其包括:一加熱爐;一真空管,其設于加熱爐內,真空管沿其軸向方向的兩端分別設有一入射窗口和一透射窗口,入射窗口和透射窗口對應設置;真空管內設有一試樣夾持裝置;一第一電離室,其對應入射窗口設于真空管的外部;一第二電離室或一CCD探測器,其對應透射窗口設于真空管的外部。本實用新型所述的管式高溫熔鹽同步輻射原位研究裝置具有以下優點:(1)該研究裝置有效地降低了研究裝置的制造與使用成本;(2)該研究裝置提供了試樣周全的氣氛保護和真空環境,提高了測試實驗的可靠性;(3)該研究裝置還能夠提高對放射性試樣測試實驗的安全性,有效降低了其放射性污染的概率。
聲明:
“管式高溫熔鹽同步輻射原位研究裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)