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    低成本去除冶金硅中雜質硼的方法

    1126   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:36:03
    本發明公開了一種低成本的去除冶金硅中雜質硼的方法，采用高溫熱氧化法首先在冶金硅表面生長二氧化硅薄層，其次通過熱處理方式，調控雜質硼在二氧化硅/硅界面處的分凝，以及調控雜質硼過飽和析出、富集并偏析至硅晶界處，使得冶金硅內部的雜質硼擴散到二氧化硅/硅界面附近，然后去除二氧化硅，最后采用化學濕法酸處理，達到去除雜質的目的。本發明提出的新方法的總雜質去除率大于96％，雜質硼去除率大于93％，具有總雜質和硼雜質去除效率高、工藝流程短、生產成本低、污染小等特點，很容易在產業化上進行推廣應用。
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    聲明：
    “低成本去除冶金硅中雜質硼的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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