本發明公開了一種冶金法除硼、磷提純工業硅的方法,包括以下步驟:1)將工業硅塊置于真空環境下加熱至硅完全熔化,并保持該溫度40-80min以精煉硅塊;2)在步驟1)的真空環境中導入含氧氣、水蒸氣的保護氣氛以使得保護氣氛中的氧氣、水蒸氣與硅塊中的雜質充分反應,保護氣氛的導入流量為50-100ml/min;此步中,工業硅塊依然處于熔化狀態;3)將上步的環境降溫至工業硅塊處于固態得到硅錠,切除該硅錠的渣相層即可。本工藝流程可以純化各種型號的工業硅,且無需對樣品進行粉碎球磨,只需簡單的破碎,對樣品尺寸要求較寬;本工藝無需任何酸洗步驟,避免了大量強腐蝕性酸的使用,簡化了工藝,降低了成本;本工藝可以將磷、砷、銻、鈣等雜質去除到滿足太陽能級多晶硅要求;硼雜質降低至1.5-0.3ppmw,滿足太陽能級多晶硅標準。
聲明:
“冶金法除硼、磷提純工業硅的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)