本實用新型涉及等離子槍技術領域,包含等離子槍回轉與升降機構、固定支架、等離子槍,等離子槍設置在具有上下運動與回轉運動相結合的等離子槍回轉與升降機構上,等離子槍回轉與升降機構包含等離子槍回轉機構、等離子槍升降機構,等離子槍回轉與升降機構安裝在爐頂的固定支架上,等離子槍回轉與升降機構還包含旋轉半徑可以調節的旋轉半徑調節裝置,本實用新型在采用等離子弧對多晶硅料熔煉時,與單純的電阻加熱或中頻加熱相比,熔化時間從5~10小時左右可縮短到2~3小時,采用等離子弧與感應加熱相結合的加熱方式,可以在不同工藝階段既可調節功率參數,還可以調節不同加熱組合形式,以滿足其它新工藝的特種需求,并且不受被熔煉材料性質的限制,等離子槍的回轉升降機構充分滿足了節時節能和操作工藝要求,擴展了應用范圍。
聲明:
“真空冶金爐等離子槍回轉升降機構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)