一種鑄造冶金技術領域的高純鋁真空提純裝置,包括:爐殼、熔化裝置、凝固裝置、絕熱裝置、電磁攪拌裝置、下引機構和固定支架,其中:電磁磁攪拌裝置、熔化裝置和絕熱裝置依次由外而內固定設置于固定支架上,絕熱裝置包圍在坩堝的外圍,凝固裝置位于熔化裝置的下方并與熔化裝置同軸固定設置,下引機構位于爐殼的底部并與凝固裝置的下端相連,固定支架固定設置于爐殼內。本發明的晶體的最大生長速度可達27cm/h,4N純鋁經一次提純,85%投入料的平均純度可以達到5N以上,平均晶粒尺寸在150μm以下。
聲明:
“高純鋁真空提純裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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