一種用于真空磁控濺射粉紅色金靶材及其制備方法,屬于有色金屬冶金技術領域,用于真空磁控濺射粉紅色金靶材成分按重量百分比含Au82.0~95.0%,Pd0.5~7.0%,Fe0.3~4.0%,Cu0.5~3.0%,Cr0.1~3.0%,In0.05~1.0%;方法按以下步驟進行:(1)準備原料;將Au加熱熔化,將Pd放入熔化的Au中,互熔后依次加入Fe、Cu、Cr和In;(2)將金屬熔體攪拌均勻,然后加熱至1200~1300℃,保溫3~5min進行精煉;(3)澆注到預熱的模具中,空冷至常溫,獲得鑄坯;(4)銑面、軋制、退火、剪切和校平。本發明的粉紅色金靶材應用于鍍膜技術中,可獲得色澤均勻、抗氧化性抗硫化性好、表面硬度高、耐磨性好的粉紅色膜層,具有廣闊的應用前景。
聲明:
“用于真空磁控濺射粉紅色金靶材及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)