本發明的目的是制備一種非晶納米晶Ni-Mo復合鍍層電極。當該鍍層電極在電解水、冶金工業、氯堿工業中使用時,可有效降低槽壓和電解能耗;降低原料成本;提高電極的反應活性,有效提高電解效率。為達到上述效果,力求制備方法簡單,性價比高,本發明主要采用簡單易控的電沉積技術,鍍液溫度為室溫,鍍液pH值9.5-10.0,控制制備工藝參數在允許的誤差范圍內,控制鍍液離子濃度不變,實現非晶納米晶Ni-Mo23.36復合鍍層電極的電沉積。
聲明:
“非晶納米晶復合鍍層電極的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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