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    利用含氧多孔層吸除硅中雜質B的方法

    1159   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:50:33
    本發明公開了一種利用含氧多孔層吸除硅中雜質B的方法。按下述步驟進行：a）將硅塊制成50～1000目的硅粉；再對硅粉預處理：分別用H2SO4與H2O2的混合溶液、HF溶液、無水乙醇溶液以及純水各攪拌清洗，之后放入真空干燥箱中烘干；b）將預處理后的硅粉用腐蝕液進行高溫腐蝕，再用純水進行清洗、過濾后烘干，得到多孔硅；c）多孔硅的氧化：將多孔硅通過水溶液浸注或高溫退火方式進行氧化，在多孔硅表面構筑含氧多孔層，得到含氧多孔硅；d）對含氧多孔硅進行酸洗，去除表面氧化層，再進行清洗、過濾后烘干，得到去除B的硅粉。本發明制備路徑新穎，工藝簡單，易操作，成本較低，能夠有效的降低冶金級硅中的B濃度，并能在工藝上使B的濃度很容易的控制。
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    聲明：
    “利用含氧多孔層吸除硅中雜質B的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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