本公開提出一種真空燒結裝置以及有機層燒結工藝。真空燒結裝置用于激光燒結背板的有機層。真空燒結裝置包括本體、蓋板、取放機構以及激光源機構。本體具有容納背板的真空腔室。蓋板由透明材質制成。取放機構設于真空腔室內,并被配置為將蓋板放置于背板上,或將放置在背板上的蓋板移開。激光源機構設于真空腔室內。蓋板位于背板上時,激光源機構發出的激光穿過蓋板照射背板,背板的有機層燒結汽化形成的汽化有機物被蓋板阻擋。
聲明:
“真空燒結裝置以及有機層燒結工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)