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    半導體元器件用真空燒結裝置

    1140   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:57:02
    本實用新型公開了一種半導體元器件用真空燒結裝置，涉及燒結裝置的技術領域。其技術要點是：包括燒結室，所述燒結室的上側設有出煙口，所述燒結室的下端設有入料口，所述入料口的下側設有料臺，所述料臺的下側設有支撐座，所述支撐座的上端開設有滑槽，所述料臺通過支撐腿滑動連接于所述滑槽內，所述支撐腿插接于所述料臺的下表面，所述料臺一側的側壁通過第一連接組件連接有第一氣缸，所述料臺的下表面設有第二氣缸，所述第二氣缸通過第二連接組件連接于所述料臺。設置的料臺，通過設置的第一連接組件能夠將料臺從一側推到另一側，再通過第二連接組件對料臺進行升降，具有便于對料臺進行移動運輸的特點。
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    聲明：
    “半導體元器件用真空燒結裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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