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    氟鋁酸鋰系列晶體的軟坩堝下降生長方法

    1011   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:58:01
    本發明是一種LAF系列晶體的坩堝下降生長方 法, 其特征在于, 采取低溫固相氟化處理的方法和軟坩堝下降方法。以NH4F為氟化劑, 在80～150℃的溫度下加熱進行為期3～4周的低溫減壓脫水, 然后在300℃左右經24小時的減壓氟化, 再在560度以上的溫度下抽真空燒結, 軟坩堝下降方法是以鉑金薄片在0.06——0.15mm厚度制作坩堝, 其尺寸為φ8——25mm, X250——300mm, 晶體生長界面溫度為770——820℃, 溫度梯度控制在20——30℃/cm左右, 向上向下逐步減小, 生長速度每天5——10mm, 直至生長完成。
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    聲明：
    “氟鋁酸鋰系列晶體的軟坩堝下降生長方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    真空冶金
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