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    低壓高能SiC半導體電嘴材料的制備方法

    1070   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:58:02
    本發明公開了一種低壓高能SiC半導體電嘴材料的制備方法，包括以下步驟：1)按照體積配比，選取45～70％的SiC粉末，5～15％的ZrO2粉末，10～30％的Al2O3粉末，10～30％的構成玻璃體系復合氧化物粉末，混合均勻，過200目篩儲存備用；2)按照粉料重量：PVA重量＝95 : 5的比例加入8％固含量的PVA，手動混合均勻后，過80目篩，在80MPa壓力下壓制形成生坯；3)將生坯放入空氣爐中進行燒結，升溫速率為5℃/h，升溫至450℃，保溫12h；4)將排膠后的生坯放入真空燒結爐中，填充Ar，升溫至1600～1800℃進行燒結，保溫時間為1～3h，升溫速率為5℃/min。本發明制備得到的SiC半導體復合材料具有發火電壓低，火花能量大、不受氣壓和環境介質的影響，耐熱沖擊、耐電火花的腐蝕，熄滅再啟動、高空性能好等優良性能。
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    “低壓高能SiC半導體電嘴材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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