本發明公開了一種新型管狀ITO靶材的制備方法,其特征在于:所述ITO粉末以銦錠和四氯化錫為原料,通過工序制備得到重量百分比In2O3:SnO2=96:3、純度≥99.98%、粒度為0.7~1.5μm的ITO,所述ITO粉末通過化學共沉淀、脫水、煅燒及球磨的工序制備而成,通過化學共沉淀、脫水、煅燒及球磨等現有技術對原料進行處理得到ITO粉,再通過對ITO粉進行真空燒結、降溫制備得到ITO靶材,方法簡單,操作方便,便于推廣使用,從而在制備中不容易出現管狀ITO靶材組織的偏析現象,晶粒不是很微細均勻,純度也不是很高的問題,并且具有尺寸大型化制作、高密度化、符合多種領域的使用,這樣提高了管狀ITO靶材的領域使用,從而具有很好的市場競爭力度,不容易被市場所淘汰。
聲明:
“新型管狀ITO靶材的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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