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    電子束蒸發技術制備微球碳化硼薄膜的方法與裝置

    996   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:59:03
    一種電子束蒸發技術制備微球碳化硼薄膜的方法，將碳化硼膜料放到電子束蒸發設 備的坩堝中，將清洗、干燥后的微球形襯底放到三維沉積裝置的篩網反彈盤里，使微球 形襯底位于坩堝正上方20cm～30cm處；在真空條件進行鍍膜，鍍膜真空度不低于 5.0×10-3Pa，襯底溫度為室溫～300℃；調節電子束使其聚焦到膜料上的斑點最小，調節 三維沉積裝置，使篩網反彈盤以0.125Hz～1Hz的頻率作間歇式振動，束流值控制在 80mA～140mA，鍍膜時間為5h-100h。此方法可制備出球形襯底的微球碳化硼薄膜， 薄膜結構因工藝不同有多晶和非晶兩種狀態，所制備的碳化硼薄膜表面光滑、均勻性良 好。
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    真空冶金
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