本公開提供了一種具有高紅外反射率的微疊層薄膜及其制備方法,步驟包括:采用電射流方法在預處理過的基體表面依次沉積金屬間化合物?碳化物復合薄膜和金屬氧化物薄膜,形成具有多層結構的微疊層薄膜;采用電射流方法沉積多層微疊層薄膜,設備簡單、可控性強、沉積速率高,同時制備的微疊層薄膜致密度高,薄膜表面氣孔少和微裂紋少,且薄膜具有較高的紅外反射率;解決了旋涂法對實驗環境要求高且制備的薄膜不均勻和激光熔覆法的激光熔覆設備昂貴,而且得到的涂層內部氣孔較多,涂層組織不均勻,這使得涂層具有較低的紅外反射率的問題。
聲明:
“具有高紅外反射率的微疊層薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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