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    適用于光學陶瓷的冷等靜壓方法和光學陶瓷的制備方法

    751   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:02:02
    本發明提供了一種適用于光學陶瓷的冷等靜壓方法和光學陶瓷的制備方法，冷等靜壓方法包括以下步驟：a)將干壓成型后的若干光學陶瓷圓柱體狀素胚堆疊成一個圓柱體，并且每兩個圓柱體狀素胚之間用圓形稱量紙隔開；b)將步驟a)堆疊成的圓柱體用保鮮膜包裹至少2層；c)將步驟b)包裹好的圓柱體放入真空袋中抽真空，然后冷等靜壓，經卸壓得到冷等靜壓后的光學陶瓷素胚。采用本發明新的冷等靜壓的方法，可以制備出邊緣受損較少的陶瓷胚體，進而制備出具有高透過率的陶瓷片。實驗證明，本發明實施例采用新型的冷等靜壓技術燒結出的Nd：YAG激光陶瓷邊緣缺陷大大的減少，拋光后透過率可達81％。
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    真空冶金
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