本發明提供一種磁光記錄靶材及其生產工藝,屬于光盤、磁光盤制造技術領域。利用輕、中稀土元素的高飽和磁化強度、高磁晶各向異性、高磁光效應的優點,對傳統的鋱鐵鈷磁光材料進行輕、中稀土摻雜。采用磁懸浮熔煉技術熔煉基靶合金,基靶合金成分為鐵鈷合金。將純鋱和輕稀土線切割成扇片或圓片,對稱地鑲嵌在鐵鈷合金基靶刻蝕最大的圓環區內制成復合靶,通過調節鋱片、輕稀土片的數量與位置或改變基靶合金含量,來改變靶材成分。采用磁懸浮熔煉技術熔煉靶材合金,熔煉過程中,合金在磁場中被懸浮于坩堝中,同時在磁場作用下,對合金進行攪拌,保證合金成分的均勻性,并避免了因使用石英坩堝所導致的高成本和效率低的問題。用于光盤、磁光盤制造。
聲明:
“磁光記錄靶材及其生產工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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