本發明公開了屬于陶瓷靶材技術領域的一種高密度HfO2靶材的制備方法。本發明利用堿性溶劑對HfO2粉體預處理,將預處理后粉體置于馬弗爐、熱壓爐中燒結,然后粉碎、過篩,再置于熱壓爐中進行三段式熱壓燒結,最后隨爐冷卻,得到HfO2靶材;所得HfO2靶材外觀呈均勻灰色,相對密度達到85%~95%,具有高強度、不易開裂的特點,適用于濺射制備光學薄膜。
聲明:
“高密度HfO2靶材的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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