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    多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制備方法

    1137   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:02:21
    本發明提供一種多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制備方法，制備方法包括如下：支撐體的制備、過渡層的制備、以及表面膜層的制備，其中，支撐體使用碳化硅粉體Ⅰ、碳化硅粉Ⅱ，過渡層使用碳化硅粉Ⅲ，表面膜層使用碳化硅粉Ⅳ，碳化硅粉Ⅳ的平均粒徑＜碳化硅粉Ⅲ的平均粒徑＜所述碳化硅粉Ⅰ的平均粒徑，且碳化硅粉Ⅱ＜碳化硅粉Ⅰ的平均粒徑。根據本發明獲得的多通道碳化硅陶瓷膜元件，表現為較強的親水憎油特性；良好的機械性能；所制備的陶瓷膜元件孔隙率在35％～45％之間，結合其親水憎油特性，膜通量達到氧化鋁陶瓷膜的3倍以上；碳化硅的化學穩定性較強，耐受各種溶劑和各種濃度氧化劑；使用溫度可以達到800～1000℃。
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    “多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    真空冶金
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