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    硅基半導體PN結結構及其制備方法、光電陰極和應用

    1238   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:02:22
    本發明屬于半導體電極技術領域，公開了一種硅基半導體PN結結構及其制備方法、光電陰極和應用，p型硅基底表面沉積有TiO2納米結晶層，TiO2納米結晶層通過還原處理后與p型硅基底形成肖特基接觸，得到p型硅?二氧化鈦異質結結構；其結晶性TiO2納米層上負載Pt助劑構成硅基半導體PN結光電陰極，該光電陰極應用于光電化學池光解水制氫中。本發明的硅基半導體PN結結構能產生較高的光生電壓，且具有較高的穩定性，同時制備方法簡單易行，可控性強，可實現大規模生產；本發明的硅基半導體PN結光電陰極利用n型TiO2納米結晶層成功促進了光生載流子的分離，提升了硅基光陰極的起始電位，同時也對p型硅基底起到了保護作用。
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    “硅基半導體PN結結構及其制備方法、光電陰極和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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