本發明涉及一種基于比較法校準正壓漏孔的分子流進樣系統及控制方法,提出基于動態分子流進樣方法和累積分子流進樣方法相結合的示漏氣體進樣系統和方法,在漏孔泄漏的氣體累積一段時間后,在一套比較法正壓漏孔校準系統上、實現了動態比較和累積比較兩種質譜分析方法的分子流進樣,突破了比較法校準正壓漏孔質譜分析進樣的關鍵技術,并且解決了累積法條件下、正壓漏孔校準過程中混合氣體分子流進樣和微量He氣累積測量的技術難題。
聲明:
“基于比較法校準正壓漏孔的分子流進樣系統及控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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