本發明提供一種監視化學機械拋光處理的方法,包含以下步驟:自化學機械拋光處理接收實時數據信號,其中所述實時數據信號與摩擦力、力矩、馬達電流有關;將該數據信號轉換成一不同頻率的信號的功率頻譜,其中各頻率總和等于該原始數據信號;識別并監視該功率頻譜的對應于所述化學機械拋光處理的信號成分;檢測該信號成分的振幅或頻率的變化;及改變所述化學機械拋光處理以響應所檢測的變化。本發明也提供一種完成上述方法的裝置。
聲明:
“涉及基于頻率分析監視的化學機械拋光處理” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)