一種計算機實施的方法包括:用實地光學監測系統獲得至少一個當前光譜,將所述當前光譜與多個不同的參考光譜進行比較,和基于所述比較來確定對于具有經受拋光的最外層的基板來說是否已到達拋光終點。所述當前光譜是從基板反射的光的光譜,所述基板具有經受拋光的最外層和至少一個下面層。所述多個參考光譜代表從基板反射的光的光譜,所述基板具有厚度相同的最外層和厚度不同的下面層。
聲明:
“在使用多個光譜的化學機械拋光中的終點檢測” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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