本文所述的實施方式總體涉及一種基板處理腔室,并且更具體地涉及一種用于監測所述基板處理腔室的清潔處理的設備和方法。處理器從設置在基板處理腔室中的一個或多個傳感器接收一個或多個溫度讀數。所述處理器從所述一個或多個溫度讀數確定每個溫度讀數的峰值,這指示放熱膜清潔反應結束。在確定每個溫度讀數已經達到峰值時,所述工藝發出通知以停止所述清潔工藝。
聲明:
“在等離子體增強化學氣相沉積腔室清潔期間用于終點檢測的溫度傳感器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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