本發明涉及改進的測量儀,所述測量儀使用降低分析物的測量中干擾化合物影響的方法,更具體來說,涉及降低其中測試條使用兩個或多個工作電極的系統中干擾化合物影響的方法。在本發明中描述了測量儀,其給第一個工作電極(12)施加第一個電位(E1),給第二個工作電極(14)施加具有相同極性但是比第一個電位大的第二個電位(E2)。測量儀測量產生的電流,并且使用預先確定的算法來校正測量的電流,以補償樣本中存在的干擾化合物。
聲明:
“用于使用兩個不同的施加電位來降低電化學傳感器中的干擾的改進方法的測量儀” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)