本發明涉及一種具有在線監測功能的化學氣相沉積裝置,包括:生長腔、位于生長腔內的基片臺、位于基片臺上的薄膜襯底、位于生長腔內并相對位于薄膜襯底上方的噴淋頭、位于生長腔外并用于監測生長于薄膜襯底表面薄膜表面平整度的第一測量裝置、位于生長腔外并用于監測薄膜內部應力的第二測量裝置及位于生長腔外并用于監測薄膜內殘余應力的第三測量裝置。本發明提供的化學氣相沉積裝置中利用相應監測裝置監測薄膜生長過程中應力變化情況,以便于后期建立薄膜樣品生長過程應力與生長條件的數據庫,并進而在后續薄膜生長中根據數據庫中相應數據選擇適宜生長條件。
聲明:
“具有在線監測功能的化學氣相沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)