本發明提供了一種化學機械研磨設備,包括轉盤、鋪設于所述轉盤上的研磨墊、以及設置于所述研磨墊上方的研磨頭、研磨液供應管以及調節器,還包括置于所述調節器中的電機以及分析電機信號的監測分析單元,所述監測分析單元根據所述電機的扭轉力矩信號判斷所述研磨墊的狀態。根據本進行化學機械研磨,通過所述電機控制所述調節器的旋動,以修整研磨墊;所述監測分析單元根據電機的扭轉力矩信號實時判斷所述研磨墊的狀態。本發明提供的化學機械研磨設備及其防止化學機械研磨殘留的方法,通過所述電機有效控制所述調節器懸臂的運動,同時通過所述監測分析單元可間接分析待研磨表面是否有殘留,及時對化學機械研磨設備查缺補漏。
聲明:
“化學機械研磨設備及其防止化學機械研磨殘留的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)