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    表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法

    906   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:54:49
    本發明屬于提供一種表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法。采用軟件設計所需的點陣陣列圖樣,用透明膠片高精度打印的方法制備掩模(Mask)。把正性光刻膠旋涂于SPR金片表面,紫外光通過掩模曝光后,用堿液顯影。然后采用選擇性化學刻蝕暴露出的金膜,最后用剝離液去掉未曝光的光膠層,從而構建所需的金膜點陣列,點的大小和間距可方便地由掩模來控制。
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    聲明：
    “表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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