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    涂層導體Ni-5at.%W合金基帶的電化學拋光方法

    1093   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:55:30
    本發明涉及涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，以Ni-5at.％W合金基帶作為陽極，以純鎳片作為陰極，將Ni-5at.％W合金基帶在靜態下浸漬于電解拋光液中，開啟電源對Ni-5at.％W合金基帶進行拋光處理，拋光處理后的合金基帶再經去離子水反復沖洗，并用無水乙醇脫水、風機吹干即可，電解拋光液為磷酸、硫酸、乙二醇按體積比為2-4∶3-5∶2-3混合而成的電解拋光液。與現有技術相比，本發明拋光后的合金基帶通過原子力顯微鏡分析，在5×5μm范圍內RMS小于1納米，消除了由RABiTS制備基帶產生的晶界溝槽效應，且對原始基帶立方織構無影響，滿足涂層導體對基帶表面平整度的要求。
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