本實用新型公開一種半導體清洗機化學品濃度控制系統,包括化學清洗池、純水池、化學品池、廢水池和化學濃度檢測計,其中,化學濃度檢測計安裝在化學清洗池內;所述純水池、化學品池和廢水池均通過管路與化學清洗池連通,其中,廢水池通過管路與化學清洗池底部連通;所述純水池與化學清洗池之間的管路上連接有第一流量計和第一電磁閥;所述化學品池與化學清洗池之間的管路上連接有第二流量計和第二電磁閥;所述廢水池與化學清洗池之間的管路上連接有第三流量計和第三電磁閥;所述流量計、電磁閥和化學濃度檢測計分別與控制器電連接。本實用新型能夠始終控制化學清洗池內的化學品濃度在要求的范圍內,保證清洗后硅片的質量。
聲明:
“半導體清洗機化學品濃度控制系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)