本發明公開了一種化學機械拋光設備及其操作方法,化學機械拋光設備包括夾片組件,夾片組件上安裝有拋光件;保持環,保持環設在夾片組件上,拋光件位于保持環內;拋光盤,拋光盤設在保持環和拋光件的下方;其特征在于,還包括:保持環調節裝置,保持環調整裝置包括:調節裝置,調節裝置包括向上調節保持環的拉桿和向下調節保持環的壓桿;壓力分布檢測裝置,壓力分布檢測裝置設在拋光盤上以用于檢測保持環與拋光盤以及拋光件與拋光盤之間的壓力分布,調節裝置根據壓力分布檢測裝置的檢測信息調節保持環。根據本發明的化學機械拋光設備,能夠保證拋光件拋光后的面形精度,提高拋光效果。
聲明:
“化學機械拋光設備及其操作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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