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    化學氣相沉積監控系統及方法

    871   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:57:23
    本發明屬于薄膜生長監測技術領域，公開了一種化學氣相沉積監控系統及方法，薄膜材料放置于化學氣相沉積裝置內；光學成像檢測裝置包括飛秒脈沖激光器、第一柱面透鏡、第一虛擬成像相位陣列、第一衍射光柵、第一顯微物鏡、第二顯微物鏡、第二衍射光柵、第二虛擬成像相位陣列、第二柱面透鏡、單模光纖、光電探測器、高速示波器。本發明通過光學成像檢測裝置實時監測薄膜材料的生長過程，快速、實時獲得薄膜材料生長過程信息，通過與樣品數據庫數據進行對比，實時調整生長工藝參數以提高薄膜的生長質量。解決了現有技術中化學氣相沉積設備不能做到快速、實時監控薄膜生長狀態的問題，達到了能夠快速、實時獲得薄膜材料的生長信息的技術效果。
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    聲明：
    “化學氣相沉積監控系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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