本發明公開了一種用于化學機械拋光的承載頭,其包括承載盤、彈性膜和保持環,所述彈性膜設置于承載盤的下方,所述保持環設置于所述彈性膜的外周側并位于承載盤的底部;所述彈性膜包括底板部、直立部和水平部,所述底板部為盤狀結構,直立部沿所述底板部的外緣豎直向上延伸,所述水平部自所述直立部的頂端水平向內延伸;還包括應變檢測件和位置調節件,應變檢測件沿周向設置于承載盤的底部,并且,所述彈性膜加壓后,所述水平部抵接于應變檢測件,以測量水平部的應力信息;位置調節件與應變檢測件水平相鄰設置于承載盤,位置調節件能夠抵接于水平部,其基于應變檢測件的測量值調節水平部的應力,使得水平部構成的腔室沿圓周方向的變形均勻。
聲明:
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