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    晶圓緩存裝置和化學機械拋光系統

    1042   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:59:00
    本實用新型公開了一種晶圓緩存裝置和化學機械拋光系統，所述晶圓緩存裝置包括支撐架和檢測組件，所述支撐架用于水平支撐晶圓，所述檢測組件設置于所述支撐架的外周側；所述檢測組件包括信號收發部、反射部和遮光板，所述遮光板罩設于所述反射部的側部，其上設置有透光孔，所述信號收發部輸出的光信號朝向所述反射部發射，光信號經由所述透光孔入射至所述反射部，再自所述反射部經由所述透光孔發射至所述信號收發部；所述檢測組件根據所述信號收發部的接收的光信號判定所述支撐架是否放置晶圓。
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    “晶圓緩存裝置和化學機械拋光系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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