本實用新型涉及化工反應設備技術領域,尤其是一種化學氣相沉積陶瓷保護膜反應裝置,包括CH4儲存罐、H2儲存罐、蒸發器、CVD反應室和真空抽氣泵, CH4儲存罐和H2儲存罐上均連接有支管,支管上且位于閥門的上方均設有流量計,支管另一端均連接有主管道,主管道上設有壓力表和氣體檢測儀,主管道另一端連接有蒸發器,述蒸發器上通過設有的出氣管道連接有CVD反應室,CVD反應室兩側均設有高溫爐,CVD反應室底端通過抽氣管道連接有真空抽氣泵,有益效果在于:通過氣相化學反應形成固體物質沉積,不易受到外部環境影響;真空條件下進行沉積,提高獲得沉積物效率,通過控制反應氣體流量,從而控制涂層的密度,通過調節反應室內的真空壓力從而有效控制涂層純度。
聲明:
“化學氣相沉積陶瓷保護膜反應裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)