一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法,包括以下步驟:對腔體間的活動門閥進行監測;獲取晶片掉落至活動門閥口的信息;發出控制指令暫停所述活動門閥閉合動作。上述等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法中,通過對腔體間的活動門閥進行監測,實時監測晶片是否掉落至活動門閥口,一旦出現晶片掉落的情況,則發出控制指令暫?;顒娱T閥的閉合動作,有效防止等離子化學氣相沉積機臺中因腔體間傳送系統異常而造成的晶片破損。同時,還提供了一種等離子化學氣相沉積機臺異常監控系統。
聲明:
“等離子化學氣相沉積機臺異常監控方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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