本發明涉及構成為兩列的RO/NF分離膜系統的化學清洗方法,通過預測導致膜污染的原因物質,并利用適宜于該物質的化學清洗劑,對反滲透膜模塊和納濾膜模塊進行化學清洗,從而恢復并維持分離膜的過濾性能。在分離膜的過濾工序中,因多種原因發生膜被污染的現象,而根據本發明,通過預測作為膜污染的原因物質,并利用適宜于該物質的化學清洗劑進行化學清洗,從而可提高清洗效率。由此,可確保較長的化學清洗周期,從而減少化學清洗所需的時間、藥品費用等。
聲明:
“構成為兩列的RO/NF分離膜系統的化學清洗方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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