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    SiC單晶納米尺度的等離子體電化學拋光方法

    866   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:00:51
    本發明公開的一種SiC單晶納米尺度的等離子體電化學拋光方法，首先將將SiC單晶放在濃H2SO4和H2O2的混合溶液中里浸泡；其次，測量SiC單晶待拋光面的表面粗糙度，確定出疏化層的厚度；然后，在水基電解液中，以SiC單晶為陽極，不銹鋼為陰極，根據疏化層的厚度，控制電壓調制O2?的離化率，通過O2?活化電解改性SiC表面，在SiC表面生成疏化層；最后使用軟磨料CeO2去除表面生成的疏化層后，重復電解拋光工序清洗干燥即可。本發明公開的方法通過用等離子體電化學在材料表面生成疏化膜，降低表面硬度后采用軟性磨粒去除，避免材料產生脆性斷裂等機械損傷表面無化學殘留，提高表面拋光質量的同時兼顧拋光效率。
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