本發明的實施例提供了一種電鍍化學品監控方法、系統和裝置,涉及半導體化學品監控技術領域。通過濃度監控裝置和液位探測裝置實時監控電鍍化學品的濃度數據以及剩余量,使得處理裝置可基于監控得到的濃度數據以及剩余量計算得到電鍍化學品的目標添加量,并控制調節裝置將儲液槽中的原液添加至電鍍化學品中,且通過流量監控裝置監控儲液槽中的原液的添加量,并在原液添加量達到目標添加量時,發送信號至處理裝置,以使處理裝置根據信號控制調節裝置停止將儲液槽中的原液添加至電鍍化學品中,如此,便可實時監控電鍍化學品的濃度數據,并根據電鍍化學品的濃度變化自動進行添加,效率高,且準確度高。
聲明:
“電鍍化學品監控方法、系統和裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)