本發明公開了一種化學機械拋光控制方法及控制系統,所述化學機械拋光控制方法包括:使用具有多個壓力腔室的承載頭拋光晶圓,所述壓力腔室將晶圓表面對應劃分為多個分區,控制所述壓力腔室的拋光參數以調節晶圓各個分區的形貌;所述分區設定有多個采集點,加權處理所述分區中采集點的測量值,根據加權處理的測量值計算晶圓的實測形貌;比對晶圓的實測形貌與目標形貌的差異,優化所述壓力腔室對應的拋光參數。
聲明:
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