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    > 提高光電化學分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質量的方法

    提高光電化學分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質量的方法

    1038   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:00:54
    本發明涉及一種提高光電化學分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質量的方法，屬于光電化學分解水光陰極材料制備技術領域。溶液旋涂法制備銅鋅錫硫預制膜；在預制膜上表面插入摻氟的富錫修飾層；快速退火爐中高溫硫化處理，調控升降溫中吹掃氮氣氣流量；對硫化后銅鋅錫硫薄膜進行CdS及Pt助催化劑修飾，制備光電化學分解水光陰極，測試其光電化學分解水性能。本發明獲得無孔、大晶粒垂直貫穿、且附著牢固的高質量銅鋅錫硫薄膜材料，可有效抑制硫化亞銅、硫化鋅、過量硫單質等雜相在薄膜表面的吸附，避免常用的溶劑刻蝕去雜質處理方法對薄膜的傷害，將此薄膜應用到光電化學分解水體系，其光電化學分解水能力得到顯著提升。
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    “提高光電化學分解水光陰極銅鋅錫硫薄膜質量的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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