等離子增強化學氣相沉積裝置,涉及化學氣相沉積裝置。設有沉積薄膜的PECVD裝置和為沉積薄膜提供超高頻振動能量的超高頻激振裝置;所述沉積薄膜的PECVD裝置設有氣體輸送控制裝置、射頻電源、上蓋、噴射支持部、氣體分配板、夾具、收集板、加熱器、控制閥、機械泵、分子泵、排氣管路、測溫傳感器、密封圈、激振梁、反應室、測壓傳感器、進氣管路、壓力控制器和溫度控制器;所述氣體輸送控制裝置設有氣體存儲室、安裝開關、流量閥、氣體混合室、開關、流量閥和氣體輸出管路;超高頻激振裝置安裝于激振梁的端部,輸出桿與連接環焊接在一起,連接環與激振梁螺栓連接。實現薄膜應力在線消除和低應力薄膜的快速沉積制造。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)