本發明提供一種混合式化學機械拋光工藝的線上控制方法,首先提供一混合式化學機械拋光系統,包含第一拋光平臺及第二拋光平臺,分別為不同類型研磨拋光墊。提供一批次的待拋光產品晶片,其上已形成圖案化結構,及第一介電層沉積在該圖案化結構及第二介電層上。依序在該第一拋光平臺上拋光該批次中至少3片的先行產品晶片,線上進行該先行產品晶片上剩余介電層厚度的量測,建立起一線性的拋光速率表,再依據該拋光速率表,依序在該第一拋光平臺上拋光該批次中剩下的產品晶片,將該第一介電層厚度拋光至目標厚度。
聲明:
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