一種基材處理系統,其包括一真空沉積處理室,該處理室具有一排氣出口,用以在一沉積循環中排放一或多種顆粒及在一清潔循環中排放清潔氣體反應物;及一原位顆粒監測器,其耦接至排氣出口。原位顆粒監測器設置成可決定清潔循環的一起始點。等離子強化的化學氣相沉積室更包括一紅外光終點檢測器組件,其耦接至排氣出口。紅外光終點檢測器組件設置成可決定清潔循環的一終點。
聲明:
“終點檢測器及顆粒監測器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)