在有機聚合物基材的表面上通過大氣壓輝光放電沉積制備多層涂層的方法,方法的步驟包括沉積等離子體聚合的、光學透明的有機硅化合物的層(第一層)和其后在第二步驟中將聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均勻層(第二層)沉積到該第一層的曝露表面上,其中多層涂層的厚度為至少2.0ΜM,和耐磨性展示在500次TABOR循環之后,根據ASTM D 1044,CS10F輪,500G重物測量的變化小于或等于20Δ霧度單位。
聲明:
“由等離子體增強化學氣相沉積的耐磨涂層” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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