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    淺溝道隔離結構中的孔洞缺陷的檢測方法

    1124   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:11:28
    本發明提供一種淺溝道隔離結構中的孔洞缺陷的檢測方法，包括：提供一襯底，所述襯底中形成有淺溝道隔離結構，所述襯底上形成有多晶硅層；刻蝕所述多晶硅層以形成第一溝槽；形成鍺硅結構，同時，所述淺溝道隔離結構中形成孔洞缺陷；在所述多晶硅層上形成一介質層，并通過化學機械研磨、刻蝕、濕法清洗工藝去除介質層、多晶硅層、部分厚度的襯底以及部分淺溝道隔離結構以露出所述孔洞缺陷，并對所述孔洞缺陷進行檢測。在所述多晶硅層上形成介質層，并進行化學機械研磨工藝，減小了去除所述多晶硅層對所述襯底的壓應力，避免所述淺溝道隔離結構中的所述孔洞缺陷遭受擠壓，使得該孔洞缺陷的形貌保持完整，保證了該孔洞缺陷后續能夠完整地得到檢測。
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    “淺溝道隔離結構中的孔洞缺陷的檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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